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PRODUITS > FRONT-END > Dépôt CVD PECVD


Equipements de dépot couche mince par CVD (Chemical Vapor Deposition)
et PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)








Applications : micro-électronique, photovoltaïque, optique ...
Pour la production :
Tout type de CVD (PECVD, HWCVD ...)  
Single wafer, Batch, Cluster.
Tout type de dépôts : SiO2, Si3N4, Si dopé, Si amorphe, Zn.
Epaisseur du dépôt : environ 1000 Ang à 1 µm.



Télécharger la fiche produit en cliquant sur le lien ci-dessous :

+33(0)4 90 40 60 90
+33(0)4 90 40 61 05 (FAX)



ZA la Garrigue du Rameyron
84830 Serignan-Du-Comtat
FRANCE
Lun-Ven : 08h30-17h00
microtest@microtest-semi.com

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