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PRODUITS > FRONT-END



Gravure Plasma


 


ICP, RIE ou ICP-RIE
Gravure physico-chimique sélective et rapide pouvant être anisotrope
Excellente uniformité de gravure exempte de défaut
Tous types de matériaux gravés : GaAs, SiO2, Si3N4, Si, Al, TiN, TiC, Cu...
Tous types de gaz de gravure : Cl2, BCl3, SF6, CF4, O2...
Single wafer, Batch, Cluster



 
 
 
 
 
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+33(0)4 90 40 60 90
+33(0)4 90 40 61 05 (FAX)



ZA la Garrigue du Rameyron
84830 Serignan-Du-Comtat
FRANCE
Lun-Ven : 08h30-17h00
microtest@microtest-semi.com

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